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去離子水處理設備可以去除水中哪些雜質？東博專業生產去離子水處理設備的廠家

東博去離子水處理設備，專業去離子水處理設備的生產商，質優價廉，公司可以為客戶量身打造符合您用水需求，高性價比的去離子水處理設備，歡迎來電咨詢：15019979032

　水中含有很多的雜質，只有去除水中的雜質才能用在對水純度要求很高的行業中，去離子水處理設備能夠去除水中的各種雜質，經過去離子水處理設備處理后的水，可以滿足電子行業、實驗室等高標準用水，那么去離子水處理設備可以去除水中哪些雜質呢。
　　1、溶解的無機鹽：有鈉、鈣、鎂等鹽類，溶于水形成正離子。含有這些離子的水沖洗半導體器件時，會使這些不純物擴散到集成電路表面，造成短路。過去除去水中無機鹽是將水蒸餾，但就是三次重蒸餾水，水的電阻率僅3兆歐—厘米，水中仍含有大于01ppm的NaCl。最近有用反滲透法去離子。所以要用離子交換樹脂。陽離子交換脂和陰離子交換樹脂分別使用，易于再生，混合床離子交換樹脂用在離子交換的終級，起把關的作用。這樣出來的水可達18兆歐—厘米(25攝氏度)。

　2、溶解的有機物：有工業排出污物、洗滌劑、生物分解物和微生物的新陳代謝產物。這些可以用活性炭吸附方法除去。炭床要置于離子交換樹脂之前，因活性炭本身會帶來雜質。必須注意，進入樹脂床的水要先除去有機物，因為離子交換樹脂易為有機物(如腐殖酸)污染。反滲透可除去分子量大于300的有機物，分子量小于300的有機物可除去90%。

　　3、粒子物質：很多地方都容易產生，如炭床、樹脂床、深層過濾等一些設備。雖然用一些方法使達到高電阻率，但沒有有效地除去粒子物質。這就會使半導體器件出現針孔、短路、斷路、內部擊穿和光致抗蝕劑脫落等缺陷。除去粒子物質，只有用膜濾，一般標準用孔徑為0.45微米的微孔濾膜，特殊需要用孔徑為0.22微米的微孔濾膜，除去膠體鐵、膠體硅和小細菌。反滲透設備也能除去小粒子。